%0 Journal Article
%A A. P. Dostanko
%A D. A. Golosov
%A S. M. Zavadski
%A S. N. Melnikov
%A J. E. Okojie
%A J. D. Kotingo
%A G. M. Ruban
%T Formation of titanium nitride films by reactive magnetron sputtering under low pressure
%J Problemy fiziki, matematiki i tehniki
%D 2016
%P 12-17
%N 2
%I mathdoc
%U http://geodesic.mathdoc.fr/item/PFMT_2016_2_a1/
%G ru
%F PFMT_2016_2_a1