TY  - JOUR
AU  - T. A. Kholomina
TI  - Implantation regime influence upon parameters of~$\mathrm{Si0}_2$ films on silicon
JO  - Matematičeskoe modelirovanie
PY  - 1998
SP  - 21
EP  - 24
VL  - 10
IS  - 7
PB  - mathdoc
UR  - http://geodesic.mathdoc.fr/item/MM_1998_10_7_a1/
LA  - ru
ID  - MM_1998_10_7_a1
ER  -