%0 Journal Article
%A T. A. Kholomina
%T Implantation regime influence upon parameters of~$\mathrm{Si0}_2$ films on silicon
%J Matematičeskoe modelirovanie
%D 1998
%P 21-24
%V 10
%N 7
%I mathdoc
%U http://geodesic.mathdoc.fr/item/MM_1998_10_7_a1/
%G ru
%F MM_1998_10_7_a1